高壓反應釜是磁力傳動裝置應用于反應設備的典型創新,它從根本上解決了以前填料密封、機械密封無法克服的軸封泄漏問題,無任何泄漏和污染,是國內目前進行高溫、高壓下的化學反應為理想的裝置,特別是進行易燃、易爆、有毒介質的化學反應,更加顯示出它的*性。
高壓反應釜
高壓反應釜釜體材料主要采用1cr18Ni10Ti不銹鋼制作,并可根據不同介質要求制作鈦材(TA2)、鎳(Ni6)及復合鋼板,釜體結構有平蓋、凸形蓋以及帶人孔的閉式反應釜體,釜蓋上的開孔可根據用戶要求進行設計;加熱方式有夾套蒸氣、夾套熱油電加熱等形式。對有拋光要求的釜體內表面,可達到以上的鏡面拋光水平,對高粘度的物料加工成錐形底,便于放料、清洗。
高壓反應釜釜體與反應介質部氣相部位的金屬表面,介質是以氣液二態形式共存的,即附著在金屬表面上有液滴和氣態的介質,他們的流動性相對較差,其中液滴更容易黏附,液滴中的高濃度腐蝕介質使得金屬表面的鈍化膜遭到破壞。在其遭到破壞的區域,金屬表面與液滴中活性粒子接觸形成腐蝕的起始點,即形成初始腐蝕坑,隨著時間的推延,逐漸形成腐蝕狀況。
高壓反應釜的腐蝕特征:
縱向生長是孔蝕的分布特征,并在一段很長的孕育期,數月或數年后才會出現可見的孔蝕,這主要取決于金屬材料和腐蝕介質的種類。當PH值增高時,出現高度局部孔蝕,它是陽極反應的一種*形態,是一種自催化過程,在孔蝕內腐蝕過程產生的條件既促進又足以維持蝕孔的活性,金屬在蝕孔內的迅速溶解會英氣蝕孔內產生過多的癥電荷,其結果就是使得氯離子遷入以維持中性。蝕孔內高濃度的氯化物水解,其結果會產生高濃度的氫離子。
以上這兩種離子都足以促進大多數金屬和合金的溶解,其破損暴露的金屬表面成為陽極,未破損的成為陰極,陽極電流高度集中,使得腐蝕迅速向內發展形成蝕孔,通過自身的促進作用,蝕孔快速生長。因此,介質易滯留的部位是孔蝕的多發區。
對于上部的氣相空間,孔蝕多發于此,因為其視鏡和人孔部位等接管本身擁有一定的非流通空間,氫離子和氯離子可以在此處有較長時間的滯留,從而產生劇烈的孔蝕。蝕孔中留有高濃度的化合物鹽,由于氧在濃縮溶液中的溶解度實際上等于零,所以蝕孔內不存在氧的還原。隨著蝕孔的加深,其介質濃度越來越高,滯留時間越來越長,腐蝕速率也越來越快,而蝕孔附近的表面產生陰極氧花奴元使得它不受腐蝕。
在介質靜滯的條件下,尤其是有覆蓋物的表面上,高壓反應釜孔蝕通常多發生與此,然而在有流速的環境中,通常會使得孔蝕減輕或基本停止,從而減輕反應釜的腐蝕。